等離子清洗機中常用的工藝氣體包括氧氣、氬氣、氮氣、壓縮空氣、氫氣、四氟化碳等。它利用氣體電離產生的等離子體對工件表面進行處理。不同的工藝氣體會被用來達到最佳的處理效果，那么等離子清洗機中常用的工藝氣體如何選擇呢？

　　氧氣是等離子清洗常用的活性氣體，屬于物理+化學處理方式。電離后產生的離子可以物理轟擊表面，形成粗糙的表面。同時，高活性氧離子可以與斷裂的分子鏈發生化學反應，形成活性基團的親水表面，從而達到表面活化的目的。

　　有機污染物的元素在斷鍵后會與高活性氧離子發生化學反應，形成一氧化碳、二氧化碳、H2O等分子結構。從表面分離，從而達到表面清潔的目的。

　　氧主要用于高分子材料的表面活化和有機污染物的去除，但不適合易氧化的金屬表面。真空等離子體中的氧等離子體為淺藍色，在局部放電條件下類似白色。放電環境光線明亮，肉眼觀察真空室可能沒有放電。

　　產品結構

　　真空等離子體表面處理系統主要包括三個部分：真空腔及真空系統，等離子體發生器，控制系統。

　　（A）真空腔及真空發生系統

　　真空腔固定于機柜框架內，左右兩側為可拆門，因此內部的真空腔及真空系統的維修是極方便的。真空發生系統由波紋管、KF接頭、真空泵以及油霧過濾器組成，核心部件真空泵（真空泵組）。

　　（B）等離子體發生器

　　等離子體發生器在20Pa-100Pa間給電極板施加電壓，產生低溫等離子體。利用高頻轉換技術形成高頻電壓加到電極板上，當真空腔內達到一定真空度時，產生等離子體放電現象，放電后電路會自動調節電壓到適當值，保證電路正常穩定放電。

　?。–）控制系統

　　本系統使用MCGS觸摸屏、西門子PLC、中文界面。設備的工藝流程控制：真空泵啟動->擋板閥開啟->達到設定的真空度->通入工藝氣體->RF放電->工作時間到破真空->工作完成。設備分自動和手動兩種方式。